第384章 投影曝光
书名:
电子重生
作者名:
周硕
本章字数:
3034字
更新时间:
2014-10-27 20:01:13
如果没有周硕的干扰,从0.35微米工艺向0.25微米工艺过渡的光刻机,真实历史上实际使用的是步进重复投影曝光技术。
在0.35微米工艺及之前,光刻机光学掩膜版的制作要求是非常高的。基本上和生...
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